대학소식

[보도자료]포스텍 용기중·조문호 교수 “우수연구성과” 선정

2007-12-133,136

                    한국학술진흥재단, ‘2007년 우수성과 51선’ 선정, 13일 인증식

포스텍 BK21 화공인력양성사업단(화학공학과) 용기중(40) 교수와 BK21 지식산업형소재시스템사업단(신소재공학과) 조문호(39) 교수의 연구성과가 학진 중점연구소 (소장 신소재공학과 허종 교수) 과제인 ‘나노포토닉스 신소재 개발’을 통해 한국학술진흥재단(이하 학진)이 선정하는 ‘2007년 우수성과 51선’에 선정됐다.

용기중 교수는 ‘신 나노이종구조 및 나노와이어 합성기술 개발’로, 조문호 교수는 ‘고품위 Si1-xGex (0<=x<=1) 나노선의 합성과 형상 제어 및 광특성 분석’으로 우수성과로 뽑혔다.

용 교수는 학진 중점연구소 과제인 ‘나노포토닉스 신소재 개발’을 통해 세계 최초로 텅스텐 산화물ㆍ텅스텐 나노이종구조를 개발, 주목을 받았다. 이 연구결과는 재료분야에서 세계적 권위를 인정받고 있는 ‘어드밴드스 머터리얼스(Advanced Materials)’에 게재되기도 했다.

새로운 나노전자소자 및 광소자 개발에 필수적인 것으로 알려지면서 세계적으로 많은 관심을 받고 있는 용 교수팀의 연구는 또, 다양한 금속화합물로 이루어진 반도체 나노와이어의 새로운 합성법을 개발하고 있어 나노소자 상용화를 앞당길 것으로 기대되고 있다.

특히 용 교수는 지난해에 이어 2년 연속 우수성과로 선정됐다.

조 교수의 성과는 결함이 최소화된 단결정 Si1-xGex 반도체를 촉매 기상 증착법을 이용, 일차원적인 나노선 구조로 합성해 이 반도체를 광소자로 응용할 수 있는 기반을 제공한 것으로 평가받고 있다. 이 연구결과는 나노기술 분야의 권위지 ‘나노 레터스 (Nano Letters)’에 실렸다.

조 교수팀은 지금까지 저차원적 반도체 구조에서 실리콘(Si)과 게르마늄(Ge)의 연속 고용 효과와 양자 구속 효과를 이용, 광범위한 에너지 영역에서 ‘밴드갭엔지니어링 (Band-gap engineering)’*이 가능하다는 것을 증명하는 한편, 이 연구결과를 바탕으로 하는 실리콘 기반의 나노선 광전소자 연구를 한층 앞당길 것으로 전망된다.

학진은 학진의 연구지원을 통해 창출된 우수 연구성과를 학문분야별로 적극 발굴하여 연구지원 성과를 축적하고, 연구자에게 연구의욕과 자긍심을 고취시키는 한편 일반인들에게 이를 널리 알리고자 지난해부터 우수성과를 선정, 발표했다.

올해는 학진이 지원한 연구과제 중 2006년에 발표된 논문, 특허, 저ㆍ역서 등의 연구성과 6,500여건을 대상으로 심사해 포스텍 용기중 교수와 조문호 교수의 연구성과를 포함한 51개의 우수연구성과를 선정했다.

한편 학진은 지난 7일부터 학진 회관과 홈페이지를 통해 우수성과를 전시하고 있으며 ‘우수성과 사례집’을 발간하는 한편 13일 학진 대강당에서 ‘우수성과 인증식’을 개최했다.